出处:信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
字词 | 刻蚀选择比 |
释义 | 刻蚀选择比 刻蚀选择比 不同物质之间蚀刻速率的比值。在刻蚀过程中,被刻蚀物质上层的遮罩物质(如光刻胶)或下层物质本不需被刻蚀的膜层也同时遭到刻蚀,因此可分为对遮罩物质的选择比及对待蚀刻物质下层物质的选择比。选择比要求越高越好,高选择比意味着只刻除想要刻去的那一部分材料。用公式可表示为:选择比=被刻蚀材料的速率/不需要被刻蚀材料的速率。 出处:信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 刻蚀选择比 不同物质之间蚀刻速率的比值。在刻蚀过程中,被刻蚀物质上层的遮罩物质(如光致抗蚀剂)或下层物质本不需被刻蚀的膜层也同时遭到刻蚀,因此可分为对遮罩物质的选择比及对待蚀刻物质下层物质的选择比。选择比要求越高越好,高选择比意味着只刻蚀想要刻去的那一部分材料。选择比可表示为: ![]() 出处:材料科学卷 • 信息功能材料 • 信息储存材料 |
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