出处：材料科学卷 • 高分子材料 • 涂料、黏合剂、油墨
| 字词 | 光致抗蚀剂 |
| 释义 | 光致抗蚀剂 光致抗蚀剂 亦称“光刻胶”。用以覆盖基材表面的感光性材料。在经过曝光和显影处理后可使特定区域被除去，由此而暴露的基材表面可接受特定物理或化学处理。主要成分为感光树脂和增感剂，有液态和干膜两种产品形式。分为正性胶和负性胶两种类型。曝光区域可在显影过程中被除去的类型为正性胶，多为溶液，常用的有三种体系，即叠氮醌类化合物体系、光分解体系和光催化体系。曝光区域发生交联反应进而可在显影过程中被保留，非曝光区域则在显影过程中被除去的类型为负性胶，用量最大，常用的有三种体系，即叠氮化合物体系、光致二聚体系和光引发体系。广泛用于印刷电路、集成电路的制造和印刷制版的过程。 出处：材料科学卷 • 高分子材料 • 涂料、黏合剂、油墨 光致抗蚀剂 亦称“光刻胶”。用以覆盖基材表面的感光性材料。在经过曝光和显影处理后可使特定区域被除去，由此而暴露的基材表面可接受特定物理或化学处理。主要成分为感光树脂和增感剂，有液态和干膜两种产品形式。分为正性胶和负性胶两种类型。曝光区域可在显影过程中被除去的类型为正性胶，多为溶液，常用的有三种体系，即叠氮醌类化合物体系、光分解体系和光催化体系。曝光区域发生交联反应进而可在显影过程中被保留，非曝光区域则在显影过程中被除去的类型为负性胶，用量最大，常用的有三种体系，即叠氮化合物体系、光致二聚体系和光引发体系。广泛用于印刷电路、集成电路的制造和印刷制版的过程。 出处：材料科学卷 • 信息功能材料 • 信息储存材料 |
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