| 释义 |
光刻 光刻 一种复印图像与刻蚀技术相结合的半导体工艺。用照相复印方法，通过曝光和显影，将掩模版图形精确复印在涂光刻胶的绝缘层（如二氧化硅）或金属膜（如铝等）上，再在抗蚀剂的保护下对绝缘层或金属膜进行选择性刻蚀，获得所需的绝缘层或金属膜图形。出处：信息科学卷 • 光学与光电子 • 技术光学 光刻 一种复印图像与刻蚀技术相结合的半导体工艺。用照相复印方法，通过曝光和显影，将掩模版图形精确复印在涂光刻胶的绝缘层（如二氧化硅）或金属膜（如铝等）上，再在抗蚀剂的保护下对绝缘层或金属膜进行选择性刻蚀，获得所需的绝缘层或金属膜图形。出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 光刻 一种复印图像与刻蚀技术相结合的半导体工艺。用照相复印方法,通过曝光和显影,将掩膜版图形精确复印在涂有光致抗蚀剂的掩膜层(如二氧化硅)或金属膜(如铝等)上,再在抗蚀剂的保护下对掩膜层或金属膜进行选择性刻蚀,获得所需的掩膜层或金属膜图形。出处：数理化力学卷 • 物 理 • 固体物理学 |