出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体器件与技术
| 字词 | 鸟嘴效应 |
| 释义 | 鸟嘴效应 鸟嘴效应 局部硅氧化工艺中，氧通过氮化硅下面的衬垫二氧化硅层进行横向扩散，在氮化硅的边缘到其内部生成逐渐变薄的二氧化硅层的现象。因该层的形状和鸟嘴相似，故名。该现象会降低集成度，影响平坦度。氧化物越厚，鸟嘴效应越显著。通常可在氮化物和硅之间生长一层薄氧化层（垫氧）来减小其影响。 出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体器件与技术 |
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