出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
| 字词 | 脉冲激光沉积 |
| 释义 | 脉冲激光沉积 脉冲激光沉积 亦称“脉冲激光烧蚀”。一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的技术。具有沉积速率高、试验周期短、可制备多种薄膜材料等优点。 出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 脉冲激光沉积 英语缩写PLD。利用准分子激光器所产生的高强度脉冲激光束聚焦于靶材表面，使靶材表面产生高温及溶蚀，并进一步产生高温高压等离子体，等离子体定向膨胀发射，并在加热的衬底上沉积形成薄膜的工艺技术。为制备金属氧化物铁电薄膜主要技术之一。优点是：（1） 制备薄膜成分与靶材一致，且可通过调整靶材的组分来控制薄膜的组分；（2） 生长速率快，沉积参数易调；（3） 可引入氧气等活性气体，便于控制氧缺位；（4） 可实现原位退火，系统污染少；（5） 衬底温度较低，可获得外延膜等。但在薄膜中及薄膜表面存在微米或亚微米尺度的颗粒物，所制薄膜均匀性差等。 出处：材料科学卷 • 信息功能材料 • 信息储存材料 |
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