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氧化增强扩散
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氧化增强扩散
信息科学卷
氧化增强扩散
氧化过程中,在硅的氧化界面上产生过量的硅间隙原子,这些间隙原子的一部分向衬底运动,使衬底表面附近的硅间隙原子的浓度超过平衡值,从而增强了那里的掺杂杂质元素的扩散的现象。
出处:信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
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更新时间:2026/7/17 3:39:38