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掩模版
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掩模版
信息科学卷
掩模版
简称“掩膜”。在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光刻胶涂层选择性曝光,将图形转印到硅片表面的一种结构。图形由不透光区域决定的称“亮场掩模版”,由透光区域决定的称“暗场掩模版”。
出处:信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
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更新时间:2026/10/23 3:34:40