出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术
| 字词 | 接触式光刻 |
| 释义 | 接触式光刻 接触式光刻 曝光时，掩模版直接与光刻胶层接触的光刻技术。优点是曝光出来的图形与掩模版上的图形分辨率相当，设备简单。缺点有：光刻胶会污染掩模版，且掩模版容易磨损，寿命很短（只能使用5～25次）；分辨率较低，精确度只有0.5微米。 出处：信息科学卷 • 微电子 • 半导体加工技术 |
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